越南布图设计保护：2个条件，期限取三日期最早者

半导体集成电路布图设计是经登记才受保护的工业产权客体——不同于自动产生的著作权。申请向越南知识产权局提交。布图设计保护最特殊之处在于期限计算：取三个日期中的最早者，而非简单的”10年”。本文根据《知识产权法》（第67号合并文本67/VBHN-VPQH）、2026年第100号法令及2026年第10号通知，介绍保护条件、期限和程序。

1. 什么是布图设计？

《知识产权法》（第67号合并文本第4条）将布图设计定义为半导体集成电路中电路元件的三维配置及其互连。布图设计是工业产权客体——只有经登记程序授予注册证书，权利才产生，不像著作权那样自动产生。

2. 仅2个保护条件（第68条）

根据第68条，布图设计获得保护须同时满足2个条件：

独创性（第70条）：是作者本人创造性劳动的成果；在设计创作时未被布图设计创作者和半导体制造商广泛知晓。如设计是常规元件、常规互连的组合——只有整体组合具有独创性，才视为具有独创性；
商业新颖性（第71条）：在申请日之前未在世界任何地方被商业利用。

2年宽限期（第71条第2款）：如申请在布图设计被有权登记人（第86条）或经其许可的人在世界任何地方首次商业利用之日起2年内提交，则不视为丧失商业新颖性。这是给已将芯片推向市场但尚未提交申请的企业的”安全窗口”。

3. 保护期限＝三个日期中的最早者（第93条第5款）

根据第93条第5款，布图设计注册证书自授予之日起生效，在下列日期中的最早者终止：

（一）申请日起10年届满；
（二）布图设计在世界任何地方首次商业利用日起10年届满；
（三）布图设计创作日起15年届满。

示例：2020年创作、2022年首次商业利用、2023年提交申请，三个日期分别为2033、2032、2035年——保护在2032年（最早者）终止。不得简化为”保护10年”——正确计算必须比较全部三个日期。

4. 仅形式审查——快但不”稳”

布图设计申请仅作形式审查，不作实质审查（2026年第10号通知第40–42条）——原则上比专利更快获证。但正因不作实质审查，已授予的布图设计证书可能在授予后被争议或被宣告无效，如果设计实际缺乏独创性。企业应在提交前自行认真评估可保护性，而不能依赖审查环节。

5. 申请材料

根据2026年第100号法令（修改2023年第65号法令，2026年4月1日生效）及2026年第10号通知，布图设计申请材料包括：

申请书（修改后的第65号法令附录一06号表格）；
布图设计的照片/图样（4套）；
集成电路样品（4件）——设计已商业利用的情形；
布图设计的说明书；
委托书（通过代理人提交时）；
缴费凭证。

详细材料清单应在提交前直接对照第10号通知附录和知识产权局官网核实。新规下布图设计申请的处理时限本文不列具体数字——请核对现行文本。

6. 实务建议

尽早申请：尽管有2年宽限期，越早申请，日期（一）越靠后，丧失商业新颖性的风险越小；
提交前自行评估独创性——仅形式审查意味着授予后被无效是真实风险；
保存证据：设计创作日期和首次商业利用日期——三个期限日期中的两个取决于它们；
按规范准备齐全4套照片/图样和4件电路样品，避免补正材料。

7. 常见问题

布图设计像著作权一样自动受保护吗？
不。布图设计是工业产权客体，须向知识产权局登记并获颁证书，权利才产生。

芯片一年前已销售，还能申请吗？
能，只要在首次商业利用之日起2年内提交（第71条第2款）——不视为丧失商业新颖性。

布图设计保护期多长？
没有固定数字：在三个日期中的最早者终止——申请日起10年、首次商业利用日起10年、创作日起15年（第93条第5款）。

为什么快速获证仍有风险？
因为申请仅作形式审查（第10号通知第40–42条），不作实质审查；证书可能因缺乏独创性在授予后被争议或无效。

引用来源

《知识产权法》第67号合并文本67/VBHN-VPQH：第4条（定义）、第68、70、71条，第86条（登记权），第93条第5款（期限）；
2026年第100号法令（100/2026/ND-CP）（修改2023年第65号法令）——2026年4月1日生效：附录一06号表格；
2026年第10号通知（10/2026/TT-BKHCN）（第40–42条：布图设计申请的受理、形式审查、公布）——2026年4月1日生效。

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